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              超高真空组件

              • 磁控溅射靶源
              • 磁控溅射靶源
              磁控溅射靶源磁控溅射靶源

              磁控溅射靶源

              磁控溅射靶源

              我司提供的磁控溅射源是目前唯一和超高真空系统(1e-11torr)匹配的商业用溅射源。 在不配置弹性垫圈的结构中,可烘烤至250℃。在匹配的超高真空环境下,可以实现超高纯度的溅射沉积。






              应用范围:
              金属沉积;
              电介质沉积;
              复合物沉积。



              技术参数:
              不同型号溅射源可以选用不同靶材尺寸 .1”,2”,3” 等各种靶材尺寸均可使用;
              靶材厚度薄,最低4mm,节约靶材;
              溅射源法兰上带有气体管道,以便提高操作溅射源时的真空。
              手动/马达驱动 挡板
              溅射源可设计成原位倾斜,倾斜角度(+/-30o)
              气体流量控制
              进程全自动化
              真空中可烘烤至250摄氏度;
              占用空间小;
              冷却水流量低,仅0.5L/min
              上一个:电子束蒸发源 下一个:全自动贴片机
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